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[正版]超大规模集成电路先进光刻理论与应用 韦亚一 光刻技术概述 匀胶显影机及其应用 投影式光刻机的工作原理掩模板及其
作者 : 徐安成著
码洋价 : 227.00元
原版书名 : 高数值孔径投影光刻物镜的光学设计
是否套装 :
包册数 : 1册
: 东北林业大学出版社
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[正版]书超大规模集成电路先进光刻理论与应用韦亚一光刻技术概述匀胶显影机及其应用投影式光刻机的工作原理掩模板及管理书籍
作者 : 韦亚一著
码洋价 : 359.00元
出版时间 : 2021-06
编者 : 无编
出版周期 : 旬刊
原版书名 : 超大规模集成电路先进光刻理论与应用
是否套装 :
包册数 : 1册
页数 :
: 科学出版社
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